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光學薄膜清洗用超純水設備zl-bm001

光學薄膜清洗用超純水設備

  設備參數:
名稱:光學薄膜清洗用超純水設備
型號:zl-bm001
操作壓力:5(Mpa)
水電阻率:18
出水量:1-100
外形尺寸:18000(cm)
電壓:380(V)
水質:超純水
功率:130(w)
電導率:2
脫鹽率:90(%)
單機動力:1-100(/h)
    光學薄膜清洗用超純水設備在設計上,采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用可靠產品,采用PLC控制,全套系統自動化程度高,系統穩定性好。大大節省人力成本和維護成本,水利用率高,運行可靠,經濟合理。

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